2003 stellte JEOL den ersten Cross-Section-Polisher (CP), ein Präparationswerkzeug zur Herstellung von hochpräzisen Querschliffen, vor. Das einfache, schnelle und reproduzierbare Herstellen von Querschliffen komplexester Materialkombinationen machten den CP schnell zu dem Standardinstrument im Bereich der ionenbasierten Probenpräparationsverfahren. Mit der aktuellen Version des Cross Section Polishers IB-19540CP knüpft JEOL an diese erfolgreiche Tradition an und setzt erneut den Standard.
Durch eine verbesserte Ionenquelle können Querschliffen noch schonender und artefaktfreier hergestellt werden, was dem CP, insbesondere für empfindliche Proben, erhebliche Vorteile gegenüber anderen Präparationsverfahren verschafft. Für luftempfindliche Proben steht zudem auch ein Transferbehälter zur Verfügung. Damit können bspw. Batterieproben nach der Präparation gasdicht verschlossen und in eine Glovebox oder direkt in ein Rasterelektronenmikroskop transferiert werden.
Dank der neuen Quelle sind nun Abtragsraten von mehr als 1.200 µm/h (Si) möglich, was den Durchsatz drastisch erhöht. Zur Verbesserung der Bedienbarkeit wurde die Software und das Touch-Display des Polishers verbessert. Anwender können nun remote bzw. über Netzwerkzugriff den Präparationsfortschritt überprüfen. Die Multifunktionsbühne erlaubt sowohl die Präparation von traditionellen Querschliffen als auch das Verfeinern der Oberflächengüte von eingebetteten Proben für höchstauflösende Untersuchungen im Rasterelektronenmikroskop sowie für analytische Anwendungen wie EDX, WDX und EBSD. Darüber hinaus ermöglicht der IB-19540CP eine kontrollierte Tiefenprofilierung sowie das Sputter-Beschichten nichtleitender Proben.
Beschleunigungsspannung | 0 – 10 kV |
Abstragsrate (Si) | 1.200 μm/h |
Max. Probengröße | 11mm (B) x 8mm (T) x 2mm (H) |
Probenrotation | Automatische Probenrotation um ± 30° bzw. 360° (optional) |
Auto-Start | Automatisierter Programmstart |
Intermittent-Mode | Regelung der Probentemperatur durch gepulste Ionenexposition |
Finishing-Mode | Automatisch startende Feinpolitur |
* Umfang der Probenrotation ist abhängig vom gewählten Halter
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